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ICR (Industrial Clean Room)

기술 개요

최신 전자 산업 및 정밀 기계 산업 등 첨단 산업의 발전에 따라 생산 제품은 정밀화, 미세화, 고품질 및 고신뢰성이 요구됩니다.
전자 부품 공장, 필름 공장, 정밀 기계 공장 등의 제조 현장에서 공기 중의 부유 입자(미세 먼지)가 제품에 부착될 경우, 제품 불량을 야기하고 제조된 제품의 성능에 치명적인 장애를 줍니다. 이는 결과적으로 제품의 신뢰성과 수율(생산 원가)에 막대한 영향을 미치게 됩니다. 따라서 전체 공장 또는 중요한 작업이 이루어지는 공장의 일부 구간에 대하여 필요에 따른 청정 환경을 유지하는 것이 필수적입니다.
이러한 종류의 클린룸을 산업용 클린룸(Industrial Clean Room)이라고 합니다.

주요 적용 분야
구분세부 구분주요 공정 및 특징
전자 산업
(Electronic Industry)
반도체 (Semi-Conductor)결정화, 확산(Diffusion), 스퍼터링(Sputtering) 공정
PCB노광, 현상, 건조, 포토마스크 제조
전자 계산기전자 부품 조립용 마그네틱 드럼
인공위성 (Satellite)신뢰성 향상 및 정밀도 유지
박막 (Thin Film)필름, 연포장재 및 알루미늄 박스 제조
정밀 기계 산업
(Precision Industry)
정밀 기계항공기, 해양 계측기, 일반 계측기,
수은용 고정밀 스위치
광학 기기카메라 조립, 렌즈 가공, 셔터 조립,
마이크로 필름 및 전자 발광(EL)
시계 (Watch)전자 발광(EL) 제품 생산
초청정 공간 구성을 통한 품질 확보

ICR은 주로 IC 및 VLSI 반도체 산업에 가장 많이 적용됩니다. 최근에는 첨단 신소재, 정밀 화학 등 적용 분야가 더욱 확대되고 있습니다.
ICR의 특징은 클린룸 설비에 대한 투자가 제품의 품질 향상과 개선으로 직결된다는 점입니다. 클린룸 시설에 대한 투자는 그만큼의 높은 효과를 가져옵니다. 제품 생산에 필요한 청정도는 축적된 경험 데이터에 의해 결정될 수 있습니다.
클린룸 설치 시, 가장 중요한 핵심 공정 부분에는 최고의 청정도를 적용하고, 기타 공정에는 가장 경제적인 청정도를 적용하도록 계획하는 것이 중요합니다.

적용 분야별 권장 청정도

1 10 100 1,000 10,000 100,000
0 1 10 100 1,000 10,000 100,000
LSI 제조, 웨이퍼 공정
LSI 조립, 테스트 공정
실리콘 결정 성장
포토 마스크
포토 레지스트
일반 LCD (TN, STN)
TFT, MN
프로젝션 디스플레이 (TFT)
하이브리드 IC
인쇄 기판 재료
인쇄 회로 기판 (PCB)
트랜지스터, 다이오드
정밀 전자 부품
HDD 헤드 & 디스크
컴퓨터, HDD 조립
비디오 테이프, 플로피 디스크
사진 필름
광섬유 제조 공정
미니어처 베어링
카메라, 안경 렌즈
반도체 제조 장비
청정 배관, 각종 밸브
LSI 제조용 케미컬
정밀 계측기기 제조
클린룸 의류 세탁
인쇄, 제판
Air cleanliness (≥0.5㎛,EA/ft3)